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Partisil
Partisil™ HPLC Säulen, ehemals hergestellt von Whatman™, einer Abteilung von GE Healthcare™, gehören seit 2012 zu Hichrom™ Limited und werden dort nach den originalen Methoden und Spezifikationen hergestellt. Die Phasen basieren auf irregulären Silika-Gel mit großer Oberfläche, welches eines der ersten seiner Art auf dem Markt war. Partisil™ HPLC Säulen sind in vielen verschiedenen Dimensionen erhältlich.
Technische Daten
| Phase-Name | Modifizierung | Partikelgröße | Porengröße | End-capping | C-Gehalt | USP | Oberfläche | pH-Bereich | Tmax |
| Partisil™ ODS | C18 | 10 µm | 85 Å | - | 5% | L1 | 350 m2/g | N/A | 70 °C |
| Partisil™ ODS2 | C18 | 10 µm | 85 Å | + | 15% | L1 | 350 m2/g | N/A | 70 °C |
| Partisil™ ODS3 | C18 | 5, 10 µm | 85 Å | + | 10.5% | L1 | 350 m2/g | N/A | 70 °C |
| Partisil™ C8 | C8 | 5, 10 µm | 85 Å | + | 9% | L7 | 350 m2/g | N/A | 70 °C |
| Partisil™ PAC | Amino-Cyano | 5, 10 µm | 85 Å | - | N/A | L18 | 350 m2/g | N/A | 70 °C |
| Partisil™ SAX | ‒N+(CH3)3 | 5, 10 µm | 85 Å | - | 10% | L14 | 350 m2/g | 1.5‒7.5 | 70 °C |
| Partisil™ SCX | Sulfonic Acid | 5, 10 µm | 85 Å | - | 10% | L9 | 350 m2/g | 1.5‒7.5 | 70 °C |
| Partisil™ Silica | - | 5, 10 µm | 85 Å | - | - | L3 | 350 m2/g | N/A | 70 °C |
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