Tosoh Bioscience / TSKgel

TSKgel

TSKgel™ ist Markenname für viele verschiedene HPLC Säulen und Bulk-Materialien des Herstellers Tosoh Bioscience™. Die entweder Silika- oder Polymer-basierten Packungsmaterialien decken nahezu den gesamten Bereich an chromatographischen Trenntechniken ab. So gibt es TSKgel Säulen für die Reversed-Phase-, die Ionen- und die Ionenaustausch-, die Größenausschluss- und die Affinitätschromatographie, sowie für die Hydrophile- bzw. Hydrophobe Interaktionschromatographie (HILIC bzw. HIC). Die Säulen sind von analytischen bis präparativen Formaten erhältlich.

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TSKgel DEAE-3SW, 10 µm, 250 Å 75 mm x 7.5 mm

TSH-07163

Produktart: HPLC Column Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: Weak anion-exchange Säulentyp: Semi-präparative Säule Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Silica Innendurchmesser: 7.5 mm Länge: 75 mm pH Minimum: 2.0 pH Maximum: 7.5 Druckstabilität: 20 bar Porengröße: 250 Å Technologie: HPLC

TSKgel CM-3SW, 10 µm, 250 Å 75 mm x 7.5 mm

TSH-07162

Produktart: HPLC Column Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: Weak cation-exchange Säulentyp: Semi-präparative Säule Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Silica Innendurchmesser: 7.5 mm Länge: 75 mm Druckstabilität: 20 bar Porengröße: 250 Å Technologie: HPLC

TSKgel SP-5PW, 10 µm, 1.000 Å 75 mm x 7.5 mm

TSH-07161

Produktart: HPLC Column Basismaterial: Polymethacrylate Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: Strong cation-exchange Säulentyp: Semi-präparative Säule Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Polymer Innendurchmesser: 7.5 mm Länge: 75 mm Partikelmorphologie: spherical pH Minimum: 2.0 pH Maximum: 12.0 Druckstabilität: 15 bar Porengröße: 1000 Å Technologie: HPLC

TSKgel SCX (H+), 5 µm, 60 Å 300 mm x 7.8 mm

TSH-07158

Produktart: HPLC Column Basismaterial: Styrene-divinylbenzene Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: Strong cation-exchange Säulentyp: Semi-präparative Säule Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Polymer Innendurchmesser: 7.8 mm Länge: 300 mm pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 14.0 Druckstabilität: 50 bar Porengröße: 60 Å Technologie: HPLC

TSKgel SAX, 5 µm, 60 Å 150 mm x 6.0 mm

TSH-07157

Produktart: HPLC Column Basismaterial: Styrene-divinylbenzene Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: Strong anion-exchange Säulentyp: Semi-präparative Säule Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Polymer Innendurchmesser: 6.0 mm Länge: 150 mm pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 14.0 Druckstabilität: 150 bar Porengröße: 60 Å Technologie: HPLC

TSKgel SCX (Na+), 5 µm, 60 Å 150 mm x 6.0 mm

TSH-07156

Produktart: HPLC Column Basismaterial: Styrene-divinylbenzene Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: Strong cation-exchange Säulentyp: Semi-präparative Säule Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Polymer Innendurchmesser: 6.0 mm Länge: 150 mm pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 14.0 Druckstabilität: 150 bar Porengröße: 60 Å Technologie: HPLC

TSKgel ODS-120T, 10 µm, 120 Å 300 mm x 21.5 mm

TSH-07134

Produktart: HPLC Column Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: C18 (RP-18, ODS, Octadecyl) Säulentyp: Preparative Column Endcapping: endcapped Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Silica Innendurchmesser: 21.5 mm Länge: 300 mm Druckstabilität: 60 bar Porengröße: 120 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L1

TSKgel ODS-120T, 10 µm, 120 Å 300 mm x 7.8 mm

TSH-07130

Produktart: HPLC Column Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: C18 (RP-18, ODS, Octadecyl) Säulentyp: Semi-präparative Säule Endcapping: endcapped Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Silica Innendurchmesser: 7.8 mm Länge: 300 mm Druckstabilität: 75 bar Porengröße: 120 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L1

TSKgel ODS-120A, 10 µm, 120 Å 300 mm x 7.8 mm

TSH-07129

Produktart: HPLC Column Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: C18 (RP-18, ODS, Octadecyl) Säulentyp: Semi-präparative Säule Endcapping: non endcapped Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Silica Innendurchmesser: 7.8 mm Länge: 300 mm Druckstabilität: 75 bar Porengröße: 120 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L1

TSKgel ODS-120T, 5 µm, 120 Å 250 mm x 4.6 mm

TSH-07125

Produktart: HPLC Column Lieferzeit: ca. 4 Tage Modifizierung: C18 (RP-18, ODS, Octadecyl) Säulentyp: Analytical Column Endcapping: endcapped Hersteller: Tosoh Hardware Type: Ready-to-use Column Matrix: Silica Innendurchmesser: 4.6 mm Länge: 250 mm Druckstabilität: 200 bar Porengröße: 120 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L1

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Technische Daten

Reversed-Phase Chromatographie (RPC)

Die Silika-basierten RPC-Säulen basieren auf hochreinem, sphärischen Silika-Gel. Die TSKgel ODS-100V ist mit 100% wässrigen Eluenten kompatibel.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	End-capping	C-Gehalt	USP	Oberfläche	pH-Bereich	Tmax
TSKgel ODS-100V	C₁₈	3, 5 µm	100 Å	+	15%	L1	450 m²/g	2.0‒7.5	N/A
TSKgel ODS-100Z	C₁₈	3, 5 µm	100 Å	+	20%	L1	450 m²/g	2.0‒7.5	N/A
TSKgel OligoDNA RP	C₁₈	5 µm	250 Å	-	10%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSK ODS-140HTP	C₁₈	2.3 µm	140 Å	+	8%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel Super-ODS	C₁₈	2.3 µm	110 Å	+	8%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel ODS 80TS	C₁₈	5, 10 µm	80 Å	+	15%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel ODS 80TM	C₁₈	5, 10 µm	80 Å	+	15%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel ODS-120A	C₁₈	5, 10 µm	120 Å	-	20%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel ODS-120T	C₁₈	5, 10 µm	120 Å	+	22%	L1	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel Super-Octyl	C₈	2.3 µm	110 Å	+	5%	L7	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel Octyl 80TS	C₈	5 µm	80 Å	+	11%	L7	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel Protein C₄-300	C4	3 µm	300 Å	+	3%	L26	100 m²/g	2.0‒7.5	N/A
TSKgel TMS 250	C1	10 µm	250 Å	+	5%	L13	N/A	1.5‒7.5	N/A
TSKgel Super-Phenyl	Phenyl	2.3 µm	110 Å	+	3%	L11	N/A	2.0‒7.5	N/A
TSKgel CN 80TS	Cyano	5 µm	80 Å	+	8%	L10	N/A	2.0‒7.5	N/A

Die Polymer-basierten RPC Säulen basieren auf Polymethacrylate und sind für einen erweiterten pH-Bereich geeignet.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	End-capping	C-Gehalt	USP	Oberfläche	pH-Bereich	Tmax
TSKgel Octadecyl-NPR	C₁₈	2.5 µm	Non-porous	-	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	N/A
TSKgel Octadecyl-2PW	C₁₈	5 µm	125 Å	-	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	N/A
TSKgel Octadecyl-4PW	C₁₈	7, 13 µm	500 Å	-	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	N/A
TSKgel Phenyl-5PW	Phenyl	10, 13 µm	1000 Å	-	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	N/A

Größenausschlusschromatographie

Die TSKgel SW-Type Säulen von Tosoh Bioscience sind Silika-basierte Säulen für die wässrige Größenausschlusschromatographie (Gelfiltrationschromatographie, GFC). Durch eine Diolfunktionalisierung ist die Silica-Oberfläche gegen unerwünschte Wechselwirkungen mit Proteinen abgeschirmt. TSKgel SW-Type Säulen sind für rein wässrige Eluenten konzipiert und eignen sich ideal für die Analyse von wässerlöslichen Proteinen.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für globuläre Proteine	Ausschlussgrenze für Dextrane
TSKgel G2000SW	Diol	10, 13 µm	125 Å	2.5‒7.5	30 °C	5.000 ‒ 150.000 Da	1.000 ‒ 30.000 Da
TSKgel G3000SW	Diol	10, 13 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	2.000 ‒ 70.000 Da
TSKgel G4000SW	Diol	13, 17 µm	450 Å	2.5‒7.5	30 °C	20.000 ‒ 7.000.000 Da	4.000 ‒ 500.000Da
TSKgel G2000SW_XL	Diol	5 µm	125 Å	2.5‒7.5	30 °C	5.000 ‒ 150.000 Da	1.000 ‒ 30.000 Da
TSKgel G3000SW_XL	Diol	5 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	2.000 ‒ 70.000 Da
TSKgel G4000SW_XL	Diol	8 µm	450 Å	2.5‒7.5	30 °C	20.000 ‒ 7.000.000 Da	4.000 ‒ 500.000Da
TSKgel BioAssist G2SW_XL*	Diol	5 µm	125 Å	2.5‒7.5	30 °C	5.000 ‒ 150.000 Da	1.000 ‒ 30.000 Da
TSKgel BioAssist G3SW_XL*	Diol	5 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	2.000 ‒ 70.000 Da
TSKgel BioAssist G4SW_XL*	Diol	8 µm	450 Å	2.5‒7.5	30 °C	20.000 ‒ 7.000.000 Da	4.000 ‒ 500.000Da
TSKgel QC-PAK GFC 200	Diol	5 µm	125 Å	2.5‒7.5	30 °C	5.000 ‒ 150.000 Da	1.000 ‒ 30.000 Da
TSKgel QC-PAK GFC 300	Diol	5 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	2.000 ‒ 70.000 Da
TSKgel SuperSW2000	Diol	4 µm	125 Å	2.5‒7.5	30 °C	5.000 ‒ 150.000 Da	1.000 ‒ 30.000 Da
TSKgel SuperSW3000	Diol	4 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	2.000 ‒ 70.000 Da
TSKgel SuperSW mAb HR	Diol	4 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	N/A
TSKgel SuperSW mAb HTP	Diol	4 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	N/A
TSKgel UltraSW Aggregate	Diol	3 µm	300 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 2.000.000 Da	N/A
TSKgel UP-SW3000	Diol	2 µm	250 Å	2.5‒7.5	30 °C	10.000 ‒ 500.000 Da	N/A

* PEEK-Column-Hardware

TSKgel PW-Type Säulen basieren auf hydroxylierten Polymethacrylate Partikeln. Die Säulen können in einem erweiterten pH-Bereich von pH=2‒12 verwendet werden. Die Säulen sind für bis zu 50% organischen Anteil im Eluenten kompatibel und eignen sich unter Anderem für die Analyse von wasserlöslichen Polymeren.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für PEG/PEO	Ausschlussgrenze für Dextrane
TSKgel G2000PW	-	12 µm	125 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 2.000 Da	N/A
TSKgel G2500PW	-	12, 17 µm	< 200 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 3.000 Da	< 3.000 Da
TSKgel G3000PW	-	12, 17 µm	200 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 50.000 Da	< 60.000 Da
TSKgel G4000PW	-	17 µm	500 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 300.000 Da	1.000 ‒ 700.000 Da
TSKgel G5000PW	-	17 µm	1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 1.000.000 Da	50.000 ‒ 2.500.000 Da
TSKgel G6000PW	-	17 µm	> 1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 8.000.000 Da	500.000 ‒ 50.000.000 Da
TSKgel GMPW	-	17 µm	< 100‒1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	500 ‒ 8.000.000 Da	< 50.000.000 Da
TSKgel BioAssist G6PW	-	17 µm	> 1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 8.000.000 Da	500.000 ‒ 50.000.000 Da
TSKgel G2500PW_XL	-	7 µm	< 200 Å	2.0‒12.0	80 °C	N/A	< 3.000 Da
TSKgel G3000PW_XL	-	7 µm	200 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 50.000 Da	< 60.000 Da
TSKgel G4000PW_XL	-	10 µm	< 500 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 300.000 Da	1.000 ‒ 700.000 Da
TSKgel G5000PW_XL	-	10 µm	1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 1.000.000 Da	50.000 ‒ 2.500.000 Da
TSKgel G6000PW_XL	-	13 µm	> 1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 8.000.000 Da	500.000 ‒ 50.000.000 Da
TSKgel G-DANN-PW	-	10 µm	> 1000 Å	2.0‒12.0	50 °C	< 8.000.000 Da	< 50.000.000 Da
TSKgel GMPW_XL	-	13 µm	100‒1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	500 ‒ 8.000.000 Da	< 50.000.000 Da
TSKgel G-Oligo-PW	-	7 µm	125 Å	2.0‒12.0	80 °C	0 < 3.000 Da	N/A
TSKgel SuperMultipore PW-N	-	4 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	300 ‒ 50.000 Da	N/A
TSKgel SuperMultipore PW-M	-	5 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	500 ‒ 1.000.000 Da	N/A
TSKgel SuperMultipore PW-H	-	8 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	1.000 ‒ 10.000.000 Da	N/A
TSKgel SuperOligoPW	-	3 µm	125 Å	2.0‒12.0	80 °C	100 ‒ 3.000 Da	N/A
TSKgel G3000PW_XL-CP	-	7 µm	200 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 90.000 Da	N/A
TSKgel G5000PW_XL-CP		10 µm	1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 1.000.000 Da	N/A
TSKgel G6000PW_XL-CP		13 µm	> 1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	< 20.000.000 Da	N/A

TSKgel Alpha und SuperAW basieren auf hochvernetzten hydroxylierten Polymethacrylate und eignen sich für die Analyse von mittelpolaren Polymeren. Die Phasen besitzen ein hohe Lösungsmittelkompatibilität und sind sowohl mit 100% wässrigen als auch 100% organischen Eluenten kompatibel.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für PEO in Wasser	Ausschlussgrenze für Polystyrol in DMF
TSKgel Alpha-2500	-	7 µm	25 Å	2.0‒12.0	80 °C	5.000 Da	10.000 Da
TSKgel Alpha-3000	-	7 µm	150 Å	2.0‒12.0	80 °C	90.000 Da	100.000 Da
TSKgel Alpha-4000	-	10 µm	450 Å	2.0‒12.0	80 °C	400.000 Da	1.000.000 Da
TSKgel Alpha-5000	-	10 µm	1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	1.000.000 Da	7.000.000 Da
TSKgel Alpha-6000	-	13 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	> 10.000.000 Da	> 10.000.000 Da
TSKgel Alpha-M	-	13 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	> 10.000.000 Da	> 10.000.000 Da
TSKgel Super AW 2500	-	4 µm	25 Å	2.0‒12.0	80 °C	5.000 Da	8.000 Da
TSKgel Super AW 3000	-	4 µm	150 Å	2.0‒12.0	80 °C	90.000 Da	80.000 Da
TSKgel Super AW 4000	-	6 µm	450 Å	2.0‒12.0	80 °C	1.000.000 Da	600.000 Da
TSKgel Super AW 5000	-	7 µm	1000 Å	2.0‒12.0	80 °C	1.000.000 Da*	N/A
TSKgel Super AW 6000	-	9 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	10.000.000 Da*	N/A
TSKgel Super AW M-H	-	9 µm	N/A	2.0‒12.0	80 °C	10.000.000 Da*	N/A

* Geschätzte Werte

TSKgel H-Type Säulen basieren auf hoch-vernetzten Polystyrene-Divinylbenzene Copolymer. Das Material zeigt bei Lösungsmittelwechsel lediglich eine minimale Schrumpfung bzw. Quellung und ist chemisch sowie thermisch sehr stabil. Die Säulen sind nur eingeschränkt mit polaren Lösungsmitteln kompatibel und eignen sich sehr gut für die Analyse von organischen Polymeren.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für Polystyrol
TSKgel G1000H_HR	-	5 µm	15 Å	1.0‒14.0	140 °C	< 1.000 Da
TSKgel G2000H_HR	-	5 µm	20 Å	1.0‒14.0	140 °C	< 10.000 Da
TSKgel G2500H_HR	-	5 µm	30 Å	1.0‒14.0	140 °C	20.000 Da
TSKgel G3000H_HR	-	5 µm	75 Å	1.0‒14.0	140 °C	< 60.000 Da
TSKgel G4000H_HR	-	5 µm	200 Å	1.0‒14.0	140 °C	< 400.000 Da
TSKgel G5000H_HR	-	5 µm	650 Å	1.0‒14.0	140 °C	< 4.000.000 Da
TSKgel G6000H_HR	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	< 40.000.000 Da
TSKgel G7000H_HR	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-L mixed-bed	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	< 4.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-N mixed-bed	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	< 4.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-M mixed-bed	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	< 4.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-H mixed-bed	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	< 400.000.000 Da
TSKgel G1000H_XL	-	5 µm	15 Å	1.0‒14.0	60 °C	1.000 Da
TSKgel G2000H_XL	-	5 µm	20 Å	1.0‒14.0	60 °C	10.000 Da
TSKgel G2500H_XL	-	5 µm	30 Å	1.0‒14.0	60 °C	20.000 Da
TSKgel G3000H_XL	-	5 µm	75 Å	1.0‒14.0	60 °C	60.000 Da
TSKgel G4000H_XL	-	5 µm	200 Å	1.0‒14.0	60 °C	400.000 Da
TSKgel G5000H_XL	-	9 µm	650 Å	1.0‒14.0	80 °C	4.000.000 Da
TSKgel G6000H_XL	-	9 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	40.000.000 Da
TSKgel G7000H_XL	-	9 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_XL mixed-bed	-	9 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_XL-L mixed-bed	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	4.000.000 Da
TSKgel Multipore H_XL-M	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	2.000.000 Da
TSKgel SuperH1000	-	3 µm	15 Å	1.0‒14.0	140 °C	1.000 Da
TSKgel SuperH2000	-	3 µm	20 Å	1.0‒14.0	140 °C	10.000 Da
TSKgel SuperH2500	-	3 µm	30 Å	1.0‒14.0	140 °C	20.000 Da
TSKgel SuperH3000	-	3 µm	75 Å	1.0‒14.0	140 °C	60.000 Da
TSKgel SuperH4000	-	3 µm	200 Å	1.0‒14.0	140 °C	400.000 Da
TSKgel SuperH5000	-	3 µm	650 Å	1.0‒14.0	140 °C	4.000.000 Da
TSKgel SuperH6000	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	40.000.000 Da
TSKgel SuperH7000	-	5 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	400.000.000 Da
TSKgel SuperHM-L	-	3 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	4.000.000 Da
TSKgel SuperHM-N	-	3 µm	N/A	1.0‒14.0	140 °C	400.000 Da
TSKgel SuperHM-M	-	3 µm	15 Å	1.0‒14.0	140 °C	2.000.000 Da
TSKgel SuperHM-H	-	3 µm	20 Å	1.0‒14.0	140 °C	400.000.000 Da
TSKgel SuperHZ1000	-	3 µm	30 Å	1.0‒14.0	60 °C	1.000 Da
TSKgel SuperHZ2000	-	3 µm	75 Å	1.0‒14.0	60 °C	10.000 Da
TSKgel SuperHZ2500	-	3 µm	200 Å	1.0‒14.0	60 °C	20.000 Da
TSKgel SuperHZ3000	-	3 µm	N/A	1.0‒14.0	60 °C	60.000 Da
TSKgel SuperHZ4000	-	3 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	400.000 Da
TSKgel SuperHZM-N	-	3 µm	N/A	1.0‒14.0	80 °C	7.000.000 Da
TSKgel SuperHZM-M	-	3, 5 µm	140 Å	1.0‒14.0	80 °C	400.000.000 Da
TSKgel SuperHZM-H	-	10 µm	80 Å	1.0‒14.0	80 °C	400.000.000 Da
TSKgel SuperMultiporeHZ-M	-	4 µm	N/A	1.0‒14.0	N/A	2.000.000 Da
TSKgel SuperMultiporeHZ-N	-	3 µm	N/A	1.0‒14.0	N/A	120.000 Da
TSKgel SuperMultiporeHZ-H	-	6 µm	N/A	1.0‒14.0	N/A	40.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-H (30) HT2	-	30 µm	N/A	1.0‒14.0	220 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-H (20) HT2	-	20 µm	N/A	1.0‒14.0	220 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-H (S) HT2	-	13 µm	N/A	1.0‒14.0	220 °C	400.000.000 Da
TSKgel G2000H_HR (20) HT2	-	20 µm	20 Å	1.0‒14.0	220 °C	10.000 Da
TSKgel GMH_HR-H (30) HT	-	13 µm	N/A	1.0‒14.0	170 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-H (20) HT	-	20 µm	N/A	1.0‒14.0	170 °C	400.000.000 Da
TSKgel GMH_HR-H (S) HT	-	13 µm	N/A	1.0‒14.0	170 °C	400.000.000 Da

Ionenaustauschchromatographie

Silika-basierte SW-Type Säulen für die Ionenaustauschchromatographie mit verschiedenen Modifizierungen (SAX, WAX, SCX und WCX).

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für PEG	Kapazität
TSKgel QAE-2SW	Trimethylamino	5 µm	125 Å	2.0‒7.5	N/A	10.000 Da	N/A
TSKgel DEAE-2SW	Diethylaminoetdyl	5 µm	125 Å	2.0‒7.5	N/A	10.000 Da	N/A
TSKgel DEAE-3SW	Diethylaminoetdyl	10 µm	250 Å	2.0‒7.5	N/A	30.000 Da	N/A
TSKgel SP-2SW	Sulfopropyl	5 µm	125 Å	2.0‒7.5	N/A	10.000 Da	N/A
TSKgel CM-2SW	Carboxymethyl	5 µm	125 Å	2.0‒7.5	N/A	10.000 Da	110 mg Hemoglobin/mL
TSKgel CM-3SW	Carboxymethyl	10 µm	250 Å	2.0‒7.5	N/A	30.000 Da	N/A

Polymethacrylate-basierte Säulen für SAX, WAX, SCX bzw. WCX für verschiedene Anwendungen

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für PEG	Kapazität
TSKgel BioAssist Q	Polyamine	10, 13 µm	4000 Å	2.0‒12.0	N/A	5.000.000 Da	70 mg BSA/mL
TSKgel BioAssist S	Sulfopropyl	7, 13 µm	1300 Å	2.0‒12.0	N/A	~ 4.000.000 Da	70 mg γ-Globulin
TSKgel SuperQ-5PW	Trimethylamino	10, 13 µm	1000 Å	2.0‒12.0	N/A	1.000.000 Da	100 mg BSA/mL
TSKgel DEAE-5PW	Diethylaminoethyl	10, 13, 20 µm	1000 Å	2.0‒12.0	N/A	1.000.000 Da	30 mg BSA/mL
TSKgel SP-5PW	Sulfopropyl	10, 13, 20 µm	1000 Å	2.0‒12.0	N/A	1.000.000 Da	40 mg Hemoglobin/mL
TSKgel CM-5PW	Carboxymethyl	10, 13 µm	1000 Å	2.0‒12.0	N/A	1.000.000 Da	45 mg Hemoglobin/mL
TSKgel Q-STAT	Trimethylamino	7, 10 µm	Non-porous	3.0‒10.0	N/A	500 Da	20 mg BSA/mL
TSKgel DNA-STAT	Trimethylamino	5 µm	Non-porous	3.0‒10.0	N/A	500 Da	35 mg BSA/mL
TSKgel SP-STAT	Sulfopropyl	7, 10 µm	Non-porous	3.0‒10.0	N/A	500 Da	10 mg Lysozyme/mL
TSKgel CM-STAT	Carboxymethyl	7, 10 µm	Non-porous	3.0‒10.0	N/A	500 Da	15 mg Lysozyme/mL
TSKgel DEAE-NPR	Diethylaminoethyl	2.5 µm	Non-porous	2.0‒12.0	N/A	500 Da	5 mg BSA/mL
TSKgel DNA-NPR	Proprietary	2.5 µm	Non-porous	2.0‒12.0	N/A	500 Da	5 mg BSA/mL
TSKgel SP-NPR	Sulfopropyl	2.5 µm	Non-porous	2.0‒12.0	N/A	500 Da	5 mg Hemoglobin/mL

Säulen für die Ionenaustauschchromatographie auf Basis von Polystyren-Divinylbenzen

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	pH-Bereich	T_max	Ausschlussgrenze für PEG	Kapazität
TSKgel Sugar AXI	Trimethylamino	8 µm	60 Å	1.0‒14.0	N/A	N/A	N/A
TSKgel Sugar AXG	Trimethylamino	10 µm	60 Å	1.0‒14.0	N/A	N/A	N/A
TSKgel SAX	Trimethylamino	5 µm	60 Å	1.0‒14.0	N/A	N/A	N/A
TSKgel SCX	Sulfonic acid	5 µm	60 Å	1.0‒14.0	N/A	N/A	N/A

Hydrophile Interaktionschromatographie (HILIC)

TSKgel HILIC Säulen eignen sich für die Analyse von polaren, hydrophilen Verbindungen. Die Phasen tragen einzigartige Modifizierungen und sind mit 100% organischen Eluenten kompatibel, wodurch viele verschiedene Typen von polaren Molekülen getrennt werden können.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	End-capping	C-Gehalt	USP	Oberfläche	pH-Bereich	T_max
TSKgel Amide-80	Amide	2, 3, 5, 10 µm	100 Å	N/A	N/A	L68	450 m²/g	2.0‒7.5	80°C 50°C*
TSKgel NH₂-100	Amino	3 µm	100 Å	N/A	N/A	L8	450 m²/g	2.0‒7.5	50 °C

* For 3 µm Particle Size

Hydrophobe Interaktionschromatographie (HIC)

TSKgel HIC Phasen basieren auf Polymethacrylate und sind mit drei verschiedenen Liganden erhältlich. TSKgel Phenyl-5PW ist am meisten hydrophob, TSKgel Butyl-NPR ist am wenigsten hydrophob. Die Phasen zeigen hohe Stabilität in wasserlöslichen Lösungsmitteln (<50% Methanol, Ethanol, ACN, DMF, DMSO oder < 30% Chloroform).

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	End-capping	C-Gehalt	USP	Oberfläche	pH-Bereich	T_max
TSKgel Phenyl-5PW	Phenyl	10 µm	1000 Å	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	50 °C
TSKgel Etder-5PW	PEG	10 µm	1000 Å	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	50 °C
TSKgel Butyl-NPR	Butyl	2.5 µm	Non-porous	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	60 °C

Affinitätschromatographie

TSKgel Boronate-5PW trägt m-Aminophenylboronsäure als Ligand. Unter alkalischen Bedingungen ist das Boronate-Anion in der Lage 1,2-Cis-Diol-Gruppen zu binden, wie sie z.B. in Kohlenhydraten oder Catecholaminen gefunden wird. Die Wechselwirkung wird durch die Anwesenheit von Mg²⁺ Ionen verstärkt und durch Amin-haltige Puffer geschwächt.

TSKgel Chelate trägt als Modifizierung Iminodiessigsäure-Reste, die in der Lage sind Metallkationen (Zn²⁺, Ni²⁺ oder Cu²⁺) zu chelatisieren. Histidin-enthaltende Proteine oder Peptide binden für gewöhnlich unter neutralen pH-Bedingungen an die Ionen. Die Elution erfolgt mit Hilfe von Imidazol oder Glycin enthaltenden Puffern.

TSKgel Tresyl-5PW ist eine aktivierte Phase, die mit Hilfe eines selbst gewählten Liganden modifiziert werden kann.

TSKgel Protein A-5PW eignet sich ideal für die schnelle und robuste Analyse von monoklonalen Antikörpern mittels Affinitätschromatographie.

Phase-Name	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	End-capping	C-Gehalt	USP	Oberfläche	pH-Bereich	T_max
TSKgel Boronate-5PW	m-Aminophenyl-boronate	10 µm	1000 Å	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	45 °C
TSKgel Chelate-5PW	Iminodiacetic acid	10 µm	1000 Å	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒9.0	N/A
TSKgel Tresyl-5PW	Tresyl	10 µm	1000 Å	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	N/A
TSKgel Protein A-5PW	Recombinant Protein A, Hexamer of C Domain	20 µm	1000 Å	N/A	N/A	N/A	N/A	2.0‒12.0	30°C

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