SMT-Separation Methods Technologies / SMT SAM

SMT SAM

SMT SAM-Säulen von SMT basieren auf der Technik der selbstorganisierten Monoschicht (engl. self-assembled monolayer, SAM). Diese Bindungstechnik ermöglicht geordnete Monoschichten aus funktionellen Gruppen. Dies wird auch als "horizontale Polymerisation" bezeichnet, da die Si-O-Si-Bindungen parallel zur Silica-Oberfläche verlaufen. Dadurch kann eine höhere Ligandendichte als bei der herkömmlichen "vertikalen Polymerisation" erreicht werden.


Diese SAM-Technologie ist sowohl für Umkehrphasen-, Ionenaustausch-, Affinitäts-, chirale Chromatographie als auch für die UHPLC verfügbar.

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Partikelgröße
Modifizierung
Modifizierung (Hersteller)
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USP Klasse
Kohlenstoffgehalt
Spezifische Oberfläche [m2/g]
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Säulentyp
Hardware Type
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SMT-DD-5-100/30
1.017,00 €
SMT-DD-5-100/25
933,00 €
SMT-DD-5-100/15
881,00 €
SMT-DD-5-100/10
829,00 €
SMT-CIB-ProA-5-300/25
3.734,00 €
SMT-CIB-ProA-5-300/15
3.209,00 €
SMT-CIB-ProA-5-100/25
3.734,00 €
SMT-CIB-ProA-5-100/15
3.209,00 €
SMT-CIB-IgG-5-300/25
3.734,00 €
SMT-CIB-IgG-5-300/15
3.209,00 €
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Technische Daten

Umkehrphase

Phase

Modifizierung

Partikelgröße

Porengröße 

Oberfläche

Kohlenstoffgehalt

USP Code

SAM-C18 OD

C18

3, 5, 10 μm

 

5, 10 μm

 

5 μm

100 Å

 

300 Å

 

60 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

 

N/A

24 %C

 

8 %C

 

N/A

L1

SAM-C18 ODL

C18

3, 5, 10 μm

 

5 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

12 %C

 

4 %C

L1

SMT Elite-C18

C18

5, 10 μm

100 Å

340 m²/g

16 %C

L1

SAM-C8 O

C8

3, 5, 10 μm

 

5, 10 μm

 

5 μm

100 Å

 

300 Å

 

60 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

 

N/A

12 %C

 

5 %C

 

N/A

L7

SAM-C8 OL

C8

3, 5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

6 %C

 

2 %C

L7

SMT Elite-C8

C8

5, 10 μm

100 Å

340 m²/g

8 %C

L7

SMT MEB1

C1

5 μm

 

5 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

1 %C

 

0.6 %C

L13

SMT MEB2

C2

5 μm

 

5 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

2 %C

 

1 %C

L30

SMT MEB4

C4

5 μm

 

5 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

4 %C

 

2 %C

L26

SMT Phen1

Ph (one per ligand)

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

7.1 %C

 

3.1 %C

L11

SMT Phen2

Ph (two per ligand)

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

8.4 %C

 

3.6 %C

L11

SMT PhenH

Ph-Hexyl

3, 5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

7.1 %C

 

3.1 %C

N/A

SMT SAM C3

C3

5 µm

 

5 µm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90m²/g

6.5 %C

 

3.6 %C

N/A

SMT SAM C5 [Pen]

C5

5 µm

 

5 µm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

6.5 %C

 

3.6 %C

N/A

SMT SAM C6 [Hex]

C6

5 µm

 

5 µm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

6.5 %C

 

3.6 %C

N/A

SMT SAM C12 [DD]

C12

5 µm

 

5µm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

11 %C

 

5 %C

N/A

Ionenaustasuch

Phase

Modifizierung

Partikelgröße

Porengröße

Oberfläche

USP Code

SMT SAX

quaternary amine

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

L14

SMT WAX

polyethyleneimine

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

N/A

SMT DEAE

di-ethyl-amino-ethyl

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

N/A

SMT SCX

sulfonic acid

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

L9, L52

SMT WCX

carboxylic acid

5, 10 μm

 

5, 10 μm

100 Å

 

300 Å

340 m²/g

 

90 m²/g

N/A

Affinitätschromatographie

Phase

Modifizierung

Partikelgröße

Porengröße 

Oberfläche

Kohlenstoffgehalt

USP Code

SMT CIB-ProteinA

ProteinA

5, 10 μm

100 Å

N/A

N/A

N/A

SMT CIB-IgG

IgG

5, 10 µm

100 Å

N/A

N/A

N/A

Chirale Phasen

Phase

Modifizierung

Partikelgröße

Porengröße 

Oberfläche

Kohlenstoffgehalt

USP Code

SMT ChiralSep1

N/A

5, 10 μm

 

5, 10 µm

100 Å

 

300 Å

N/A

N/A

N/A

SMT ChiralSep2

N/A

5, 10 µm

 

5, 10 µm

100 Å

 

300 Å

N/A

N/A

N/A

UHPLC Phasen

Phase

Modifizierung

Partikelgröße

Porengröße 

Oberfläche

Kohlenstoffgehalt

USP Code

SMT SAM-C18

C18

1.5, 1.8 μm

100 Å

N/A

N/A

N/A

SMT SAM-C8

C8

1.5, 1.8 µm

100 Å

N/A

N/A

N/A

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