SMT-Separation Methods Technologies / SMT SAM

SMT SAM

SMT SAM-Säulen von SMT basieren auf der Technik der selbstorganisierten Monoschicht (engl. self-assembled monolayer, SAM). Diese Bindungstechnik ermöglicht geordnete Monoschichten aus funktionellen Gruppen. Dies wird auch als "horizontale Polymerisation" bezeichnet, da die Si-O-Si-Bindungen parallel zur Silica-Oberfläche verlaufen. Dadurch kann eine höhere Ligandendichte als bei der herkömmlichen "vertikalen Polymerisation" erreicht werden.

Diese SAM-Technologie ist sowohl für Umkehrphasen-, Ionenaustausch-, Affinitäts-, chirale Chromatographie als auch für die UHPLC verfügbar.

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O-10-100-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 10 µm, Pore Size: 100Å, Length: 10 mm, I.D.: 3 mm

SMT-O-10-100-G

535,00 €

Produktart: HPLC Guard Kits Spezifische Oberfläche [m2/g]: 340.0 Kohlenstoffgehalt: 12.0 % Lieferzeit: ca. 10 Tage Modifizierung: C8 (RP-8, MOS, Octyl) Endcapping: endcapped Hersteller: SMT-Separation Methods Technologies Hardware Type: Cartridges Matrix: Silica Innendurchmesser: 4.0 mm Länge: 10 mm Partikelmorphologie: spherical, fully porous pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 12.0 Porengröße: 100 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L7

O-10-300-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 10 µm, Pore Size: 100Å, Length: 10 mm, I.D.: 4 mm

SMT-O-10-300-G

535,00 €

Produktart: HPLC Guard Kits Spezifische Oberfläche [m2/g]: 90.0 Kohlenstoffgehalt: 5.0 % Lieferzeit: ca. 10 Tage Modifizierung: C8 (RP-8, MOS, Octyl) Endcapping: endcapped Hersteller: SMT-Separation Methods Technologies Hardware Type: Cartridges Matrix: Silica Innendurchmesser: 4.0 mm Länge: 10 mm Partikelmorphologie: spherical, fully porous pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 12.0 Porengröße: 300 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L7

O-5-100-1-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 10 µm, Pore Size: 300Å, Length: 10 mm, I.D.: 4 mm

SMT-O-5-100-1-G

535,00 €

O-5-100-2-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 100Å, Length: 10 mm, I.D.: 1 mm

SMT-O-5-100-2-G

535,00 €

Produktart: HPLC Guard Kits Spezifische Oberfläche [m2/g]: 340.0 Kohlenstoffgehalt: 12.0 % Lieferzeit: ca. 10 Tage Modifizierung: C8 (RP-8, MOS, Octyl) Endcapping: endcapped Hersteller: SMT-Separation Methods Technologies Hardware Type: Cartridges Matrix: Silica Innendurchmesser: 1.0 mm Länge: 10 mm Partikelmorphologie: spherical, fully porous pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 12.0 Porengröße: 100 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L7

O-5-100-3-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 100Å, Length: 10 mm, I.D.: 2 mm

SMT-O-5-100-3-G

535,00 €

Produktart: HPLC Guard Kits Spezifische Oberfläche [m2/g]: 340.0 Kohlenstoffgehalt: 12.0 % Lieferzeit: ca. 10 Tage Modifizierung: C8 (RP-8, MOS, Octyl) Endcapping: endcapped Hersteller: SMT-Separation Methods Technologies Hardware Type: Cartridges Matrix: Silica Innendurchmesser: 2.0 mm Länge: 10 mm Partikelmorphologie: spherical, fully porous pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 12.0 Porengröße: 100 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L7

O-5-100-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 100Å, Length: 10 mm, I.D.: 3 mm

SMT-O-5-100-G

535,00 €

O-5-300-1-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 100Å, Length: 10 mm, I.D.: 4 mm

SMT-O-5-300-1-G

535,00 €

O-5-300-2-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 300Å, Length: 10 mm, I.D.: 1 mm

SMT-O-5-300-2-G

535,00 €

Produktart: HPLC Guard Kits Spezifische Oberfläche [m2/g]: 90.0 Kohlenstoffgehalt: 5.0 % Lieferzeit: ca. 10 Tage Modifizierung: C8 (RP-8, MOS, Octyl) Endcapping: endcapped Hersteller: SMT-Separation Methods Technologies Hardware Type: Cartridges Matrix: Silica Innendurchmesser: 1.0 mm Länge: 10 mm Partikelmorphologie: spherical, fully porous pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 12.0 Porengröße: 300 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L7

O-5-300-3-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 300Å, Length: 10 mm, I.D.: 2 mm

SMT-O-5-300-3-G

535,00 €

Produktart: HPLC Guard Kits Spezifische Oberfläche [m2/g]: 90.0 Kohlenstoffgehalt: 5.0 % Lieferzeit: ca. 10 Tage Modifizierung: C8 (RP-8, MOS, Octyl) Endcapping: endcapped Hersteller: SMT-Separation Methods Technologies Hardware Type: Cartridges Matrix: Silica Innendurchmesser: 2.0 mm Länge: 10 mm Partikelmorphologie: spherical, fully porous pH Minimum: 1.0 pH Maximum: 12.0 Porengröße: 300 Å Technologie: HPLC USP Klasse: L7

O-5-300-G - C8 Guard Column (Guard Column Assembly + Cartridge) Particle Size: 5 µm, Pore Size: 300Å, Length: 10 mm, I.D.: 3 mm

SMT-O-5-300-G

535,00 €

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Technische Daten

Umkehrphase

Phase	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	Oberfläche	Kohlenstoffgehalt	USP Code
SAM-C18 OD	C18	3, 5, 10 μm 5, 10 μm 5 μm	100 Å 300 Å 60 Å	340 m²/g 90 m²/g N/A	24 %C 8 %C N/A	L1
SAM-C18 ODL	C18	3, 5, 10 μm 5 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	12 %C 4 %C	L1
SMT Elite-C18	C18	5, 10 μm	100 Å	340 m²/g	16 %C	L1
SAM-C8 O	C8	3, 5, 10 μm 5, 10 μm 5 μm	100 Å 300 Å 60 Å	340 m²/g 90 m²/g N/A	12 %C 5 %C N/A	L7
SAM-C8 OL	C8	3, 5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	6 %C 2 %C	L7
SMT Elite-C8	C8	5, 10 μm	100 Å	340 m²/g	8 %C	L7
SMT MEB1	C1	5 μm 5 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	1 %C 0.6 %C	L13
SMT MEB2	C2	5 μm 5 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	2 %C 1 %C	L30
SMT MEB4	C4	5 μm 5 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	4 %C 2 %C	L26
SMT Phen1	Ph (one per ligand)	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	7.1 %C 3.1 %C	L11
SMT Phen2	Ph (two per ligand)	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	8.4 %C 3.6 %C	L11
SMT PhenH	Ph-Hexyl	3, 5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	7.1 %C 3.1 %C	N/A
SMT SAM C3	C3	5 µm 5 µm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90m²/g	6.5 %C 3.6 %C	N/A
SMT SAM C5 [Pen]	C5	5 µm 5 µm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	6.5 %C 3.6 %C	N/A
SMT SAM C6 [Hex]	C6	5 µm 5 µm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	6.5 %C 3.6 %C	N/A
SMT SAM C12 [DD]	C12	5 µm 5µm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	11 %C 5 %C	N/A

Ionenaustasuch

Phase	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	Oberfläche	USP Code
SMT SAX	quaternary amine	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	L14
SMT WAX	polyethyleneimine	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	N/A
SMT DEAE	di-ethyl-amino-ethyl	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	N/A
SMT SCX	sulfonic acid	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	L9, L52
SMT WCX	carboxylic acid	5, 10 μm 5, 10 μm	100 Å 300 Å	340 m²/g 90 m²/g	N/A

Affinitätschromatographie

Phase	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	Oberfläche	Kohlenstoffgehalt	USP Code
SMT CIB-ProteinA	ProteinA	5, 10 μm	100 Å	N/A	N/A	N/A
SMT CIB-IgG	IgG	5, 10 µm	100 Å	N/A	N/A	N/A

Chirale Phasen

Phase

Modifizierung

Partikelgröße

Porengröße

Oberfläche

Kohlenstoffgehalt

USP Code

SMT ChiralSep1

N/A

5, 10 μm

5, 10 µm

100 Å

300 Å

N/A

SMT ChiralSep2

N/A

5, 10 µm

100 Å

300 Å

N/A

UHPLC Phasen

Phase	Modifizierung	Partikelgröße	Porengröße	Oberfläche	Kohlenstoffgehalt	USP Code
SMT SAM-C18	C18	1.5, 1.8 μm	100 Å	N/A	N/A	N/A
SMT SAM-C8	C8	1.5, 1.8 µm	100 Å	N/A	N/A	N/A

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