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PerfectSil Target

Mit exzellenter Performance und Peaksymmetrie direkt zum Ziel

Mit exzellenter Performance und Peaksymmetrie direkt zum Ziel

  • Modifizierungen: Sil • ODS-3 • C8-3 • CN-3 
  • Erhältlich in 3 µm & 5 µm Korngröße
  • Hochreines Basismaterial 99,999 %
  • Extrem hohe mechanische & chemische Stabilität
  • Aufwändiges Endcapping 
  • Excellente Peaksymmetrien bei basischen Substanzen
  • Jede Säule einzeln getestet 
  • Bestens geeignet für LC/MS
  • Ausgezeichnete Reproduzierbarkeit 
  • Hergestellt unter ISO 9001-zertifizierten Bedingungen

Modifizierungen und Technische Daten

Modifizierungen und Technische Daten

PerfectSil Target™ Korngröße Endcapping C-Gehalt USP<621> BET-Oberfläche Porengröße Porevolumen Silica-Reinheit Code
PerfectSil Target Sil 100 3 µm - 0,0 % L3 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0803
PerfectSil Target Sil 100 5 µm - 0,0 % L3 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0800
PerfectSil Target ODS-3 3 µm + 17 % L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0802
PerfectSil Target ODS-3 5 µm + 17 % L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0801
PerfectSil Target ODS-3 10 µm + 17 % L1 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0806
PerfectSil Target C8-3 3 µm + 9 % L7 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0812
PerfectSil Target C8-3 5 µm + 9 % L7 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0811
PerfectSil Target CN-3 5 µm - 7 % L10 450 m2/g 100 Å 1,1 ml/g 99,999% 0818

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